日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000  ）具有斷面加工和平面研磨功能的混合儀器！

日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000  ）的混合模式帶有兩種研磨配置：
斷面加工：將樣品斷面研磨光滑，便于表面以下結(jié)構(gòu)高分辨成像。
平面研磨：將樣品表面均勻研磨5平方毫米，從不同角度有選擇地研磨，以便突出樣品的表面特性。

日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000  ）的高通量能提高加工效率：與之前的E-3500型相比，采用新型離子設(shè)計(jì)，減少了橫截面研磨時(shí)間。（*大加工率：硅元素為300微米/小時(shí)--加工時(shí)間減少了66%。

日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000  ）的可拆卸樣品臺(tái)裝置：為便于樣品設(shè)置和定義研磨邊緣，可將樣品臺(tái)裝置拆卸。
 

混合模式：兩種研磨配置
斷面加工：將樣品斷面研磨光滑，便于表面高分辨觀察
平面研磨：不同角度有選擇地，大面積，均勻地研磨5 mm的平面，以突顯樣品的表面特性

項(xiàng)目	描述
	斷面加工臺(tái)	平面研磨臺(tái)
氣源	氬氣(Ar)
加速電壓	0-6Kv
*大研磨速率﹡1﹡2（硅材質(zhì)）	約300μm/h﹡1﹡2	約20μm/h﹡3（點(diǎn)） 約2μm/h﹡?（面）
*大樣品尺寸	20（W）×12(D)×7(H)mm	Φ50×25(H)mm
樣品移動(dòng)范圍	X±7mm,Y0－＋3mm	X0－＋5mm
旋轉(zhuǎn)角度	-	1r/m，25r/m
擺動(dòng)角度	±15°，±30°，±40°	±60°，±90°
傾斜	-	0-90°
氣體流量控制系統(tǒng)	流量調(diào)節(jié)器
排氣系統(tǒng)	渦輪分子泵(33L/S)+機(jī)械泵(50Hz時(shí)，135L/min,60Hz時(shí)，162L/min)
儀器外觀尺寸	616（W）×705(D)×312(H)mm
儀器重量	主機(jī)48kg+機(jī)械泵28Kg
可選附件	光學(xué)顯微鏡（用于觀測(cè)研磨中的樣品）
﹡1：此研磨速率是對(duì)研磨板邊緣處的硅材質(zhì)的材料研磨至100μm粒度時(shí)所獲得的*大深度值 ﹡2：此研磨速率是對(duì)硅材質(zhì)的材料進(jìn)行研磨兩小時(shí)后獲得的平均值 ﹡3：照射角度60°偏心值4mm ﹡?:照射角度0°偏心值0mm